年产1,000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮(ไนโตรเจน) Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

ไนโตรเจนไตรฟลูออไรด์ สูตรทางเคมี NF3 เป็นสารออกซิไดซ์ที่แรง เนื่องจากเป็นก๊าซพิเศษทางอุตสาหกรรมที่สำคัญ จึงมีการนำไปใช้งานที่หลากหลาย
ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ไนโตรเจนไตรฟลูออไรด์เป็นก๊าซกัดกร่อนพลาสม่าที่ดีเยี่ยม ในชิปเซมิคอนดักเตอร์ จอแสดงผลแบบแบน ไฟเบอร์ออปติคัล เซลล์แสงอาทิตย์ และสาขาการผลิตอื่นๆ ไนโตรเจนไตรฟลัตยูโอไรด์ส่วนใหญ่จะใช้เป็นก๊าซกัดกรดในพลาสมาและสารทำความสะอาดช่องปฏิกิริยา
นอกจากนี้ยังสามารถใช้ในเลเซอร์เคมีพลังงานสูงเพื่อให้เกิดการประยุกต์ใช้โดยทำปฏิกิริยากับไฮโดรเจนเพื่อปล่อยความร้อนจำนวนมากออกมาในทันที ไนโตรเจนไตรฟลูออไรด์ยังใช้เป็นเชื้อเพลิงพลังงานสูงและเป็นสารออกซิไดเซอร์และสารขับเคลื่อนในการปล่อยจรวด